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集成光电子学国家重点实验室

集成光电子学国家重点实验室是位于中国北京市的一个国家重点实验室,由清华大学吉林大学中国科学院半导体研究所共同组建,1991年1月经过验收对外开放。实验室主要研究领域包括集成光电材料器件相关技术、光电材料在光纤通信网络中应用技术等。

目录

隶属

集成光电子学国家重点实验室由清华大学、吉林大学、中国科学院半导体研究所联合组建,实验室于1987年由国家计委批准筹建,1990年底建成,1991年1月通过国家有关部门的验收后正式对外开放[1]。通过二十年来的建设和发展,实验室设备条件初具规模,各种材料生长和表征设备基本上能够满足实验室科研工作的要求,实验室已成为集成光电子材料、器件及其在光纤通信网络中应用技术等领域的国内主要研究基地。集成光电子学国家重点联合实验室半导体所实验区重点研究基于半导体光电子材料和微纳光电子材料的各种新型光电子器件以及光子集成器件,研究上述器件在光纤通信系统与网络、光信息处理与显示、光传感技术、太阳能及固态照明、以及关系国家安全领域中的应用技术及其系统技术。

团队

第一届实验室主任为清华大学张克潜教授,中国工程院院士、吉林大学高鼎三教授为学术委员会主任;第二届实验室主任为吉林大学刘式墉教授,学术委员会主任是中国科学院院士、中科院半导体所王启明研究员。中国科学院半导体研究所黄永箴研究员为现任主任(2013年6月-今),吉林大学电子科学与工程学院院长孙洪波教授为现任学术委员会主任(2013年6月-今)。实验室学术委员会由国内物理、光电子领域的15名著名专家、学者组成。实验室现有固定人员44人,其中研究人员38人(高级32人、中级6人)占86%,技术人员4人,管理人员2人。

领域

半导体光电子学是基于在半导体内操纵和控制光子运动的一门新的科学技术,是研究半导体中光吸收及辐射发射,是国家信息基础设施建设的关键课题。因此,实验室的研究方向是以新一代光通讯、光信息处理等领域中的关键光电子器件(特别是以量子结构为基础的器件)及其集成研究为重点,同时密切注视光电子新材料、新器件、新应用技术的开拓[2]。根据研究方向,实验室的研究内容包括半导体量子阱材料物理的研究和重要光电子器件物理、设计工艺;光波导器件设计与工艺实现;光电子器件应用及其系统技术的研究;光电子新材料、新器件、新应用技术的研究。主要开展以下工作:Ⅲ-V族半导体光波导开关阵列;硅基光电子器件研究;GaN材料的研究;高功率超辐射集成光源;有机/聚合物电发光器件;光纤光栅研究;5GHz半导体超短光脉冲激光器及光孤子研究;光ATM交换系统技术;程控/手动单模可调谐外腔半导体激光器及其产品开发。目标是把实验室建设成我国光电子学领域的主要研究基地和人才培养基地。

视频

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参考文献