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实验室充分利用国家“[[211工程]]”/“[[985工程]]”建设经费、学校自筹学科建设经费等,集中资金重点建设了四个研究平台(“材料与器件制造工艺平台”、“微细加工平台”、“电磁性能测试与微结构表征平台”和“集成电路设计平台”),同时,为满足具体研究方向和研究内容的需要,实验室科研人员经过与设备厂家的深入讨论,采用部分部件改进、部分功能调整、[[软件]]升级等多种形式对本实验室的MOCVD系统、脉冲激光溅射沉积设备、四靶三英寸超导镀膜沉积装置、熔体快淬纤维/薄带炉、旋转式真空晶化炉、球型真空室、熔体转轮超速急冷炉、高真空磁控与离子束溅射镀膜系统、AFM等大型设备进行了改进,以上设备改进后,使用率上升,保障了实验室科研项目高[[质量]]的完成,有力地推动了实验室环境、科研设备等基础条件的改善,使器件[[设计]]、材料制备、测试和分析的实验条件达到国际先进水平。实验室拥有各种仪器设备700余台套,总价值8000余万元。
==视频==
 
===<center> 电子薄膜与集成器件国家重点实验室 相关视频</center>===
 
<center>所集成电路薄膜生长工艺流程填内容</center>
 
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<center>一分钟大学 电子科技大学</center>
 
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==参考文献==
[[Category:303 科學教育及研究]]
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