90nm光刻機照明系統檢視原始碼討論檢視歷史
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90nm光刻機照明系統2017年4月，上海光機所自主技術研發的國內首套面向90nm節點光刻機[1]的NA0.75 ArF照明系統順利通過了整機單位的驗收測試並實現交付，實現了極限分辨率優於85nm的優異結果。
項目簡介
光刻照明系統是以非成像光學為主的複雜光學系統，其中包含深紫外激光光束變換、整形與控制技術，用以解決深紫外激光的調控難題；照明光場均勻化與校正技術，採用微透鏡陣列、均勻性校正板，解決高均勻性光場勻化難題；深紫外激光脈衝能量探測技術，解決單脈衝高精度能量探測難題。
這些技術將成為未來深紫外光學系統和儀器中不可或缺的關鍵技術。90nm光刻照明系統的研製成功，標誌着上海光機所在超精密複雜非成像光學技術領域已躋身國際先進行列。
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光刻機
光刻機（Mask Aligner），又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。
光刻機可以分為步進投影光刻機和掃描投影光刻機兩種，主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
發展歷程
光刻機的品牌眾多，根據採用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：
高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。
位於我國上海的SMEE已研製出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發製作工作。
生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率[2]通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。