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X射線光電子能譜儀檢視原始碼討論檢視歷史

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X射線光電子能譜儀是中國的一個科技名詞。

漢字是中華民族燦爛文化展台上一顆無可取代、熠熠閃光的明珠[1]。漢字之美,美在莊重典雅,形神兼具。她承載的是中華民族數千年的厚重歷史與燦爛文化[2]。她的美,是無與倫比的。

名詞解釋

X-射線光電子能譜儀,是一種表面分析技術,主要用來表徵材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線,如Al Ka =1486.6eV,與樣品表面相互作用,利用光電效應,激發樣品表面發射光電子,利用能量分析器,測量光電子動能(K.E),根據B.E=hv-K.E-W.F,進而得到激發電子的結合能(B.E)。

主要用途

XPS:固體樣品的表面組成分析,化學狀態分析,取樣訊息深度為~10nm以內. 功能包括:

1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。

2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學態的深度分析(角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式)

3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學態分布。

4. 成像功能。

5. 可進行樣品的原位處理 AES:1.可進行樣品表面的微區選點分析(包括點分析,線分析和面分析) 2.可進行深度分析適合: 納米薄膜材料,微電子材料,催化劑,摩擦化學,高分子材料的表面和界面研究

儀器類別

03030707 /儀器儀表 /成份分析儀器

指標信息: 主真空室:1×10-10 Torr XPS:0.5eV, AES: 分辨率:0.4%, 電子槍束斑:75nm , 靈敏度:1Mcps信噪比:大於70:1 角分辨:5°~90°. A1/Mg雙陽極靶 能量分辨率:0.5eV ,靈敏度:255KCPS, 使用多通道檢測器(MCD)

參考文獻