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電路板圖形轉移技術與應用》,林定皓 著,出版社: 科學出版社。

科學出版社是中國最大的綜合性科技出版機構[1],由前中國科學院編譯局與1930年代創建的有較大影響的龍門聯合書局合併而來。科學出版社比鄰皇城根遺址公園,是一個歷史悠久、力量雄厚,以出版學術書刊為主的開放式出版社[2]

內容簡介

《電路板圖形轉移技術與應用》是「PCB先進制造技術」叢書之一。《電路板圖形轉移技術與應用》基於筆者收集的數據和以往的經驗,從實際應用出發講解電路板線路製作、選擇性局部覆蓋、阻焊製作、介質層製作涉及的圖形轉移技術與應用,目的是引導從業者深入了解圖形轉移技術,提高精細線路製作能力。    《電路板圖形轉移技術與應用》共15章,着眼於圖形轉移技術涉及的各種工藝與材料,講解光致抗蝕劑(液態油墨及干膜)的應用、線路圖形及導通孔的製作、孔金屬化、銅面處理、貼膜、曝光、顯影、電鍍、蝕刻工藝。

目錄

前言

第1章 液態油墨與干膜

1.1 液態油墨 2

1.2 電路板用液態油墨的分類 2

1.3 液態感光油墨與阻焊油墨的特性要求 3

1.4 干膜型光致抗蝕劑 5

1.5 負像型干膜與正像型抗蝕劑的區別 6

1.6 液態光致抗蝕劑的應用 10

1.7 干膜的結構 11

第2章 電路板製作工藝

2.1 電路板線路製作 14

2.2 電路板導通孔製作 16

第3章 孔金屬化工藝

3.1 關鍵影響因素 18

3.2 直接電鍍技術 18

3.3 避免金屬化空洞問題的方法 20

3.4 小結 26

第4章 銅面及基材特性對圖形轉移的影響

4.1 介質材料的構建 28

4.2 銅面的處理 28

第5章 貼膜前的金屬表面處理

5.1 關鍵影響因素 36

5.2 處理效果與影響 36

5.3 表面處理與結合力的一般性考慮 37

5.4 銅面狀態與接觸面積 38

5.5 銅面狀態的磨刷改性 40

5.6 銅面處理工藝的選擇 40

5.7 銅面的化學成分 41

5.8 質量檢驗 45

5.9 各種表面處理工藝 45

5.10 表面處理注意事項 53

第6章 貼膜

6.1 關鍵影響因素 56

6.2 貼膜工藝 57

6.3 貼膜缺陷 60

第7章 蓋孔

7.1 關鍵影響因素 64

7.2 工藝經濟性及地區性差異 64

7.3 蓋孔蝕刻工藝 65

7.4 蓋孔作業的缺陷模式 67

7.5 使用前的蓋孔能力測試及評估 68

第8章 底片

8.1 關鍵影響因素 70

8.2 底片的製作與使用 70

8.3 膠捲型底片的特性 71

8.4 各種底片的結構及光化學反應 72

8.5 底片的質量 75

8.6 底片工藝的說明 76

8.7 底片的製作與使用 76

8.8 尺寸穩定性 77

第9章 曝光

9.1 主要影響因素 80

9.2 曝光能量檢測 81

9.3 曝光設備 84

9.4 線路對位精度 86

9.5 接觸式曝光的問題 87

9.6 圖形轉移的無塵室 92

9.7 直接成像(DI) 94

9.8 其他接觸式曝光替代技術 106

第10章 曝光對位問題的判定與應對

10.1 對位問題概述 108

10.2 典型的對位偏差模式 110

10.3 自動曝光對位偏差問題的分析與應對 111

10.4 對位偏差案例分析 112

10.5 小結 116

第11章 顯影

11.1 關鍵影響因素 118

11.2 曝光後的停留時間 119

11.3 提高藥液的曝光選擇性 119

11.4 負像型水溶性干膜的基礎知識 120

11.5 水溶性顯影液的化學特性 120

11.6 顯影槽中的噴流機構 121

11.7 水洗的功能與影響 123

11.8 顯影后的干膜乾燥 124

11.9 液態光致抗蝕劑顯影 124

第12章 電鍍

12.1 關鍵影響因素 132

12.2 酸性鍍銅 133

12.3 電鍍錫鉛 137

12.4 電鍍純錫 138

12.5 電鍍鎳 138

12.6 電鍍金 139

12.7 改善鍍層均勻性 140

12.8 進一步了解有機添加劑 141

12.9 電鍍問題與處理 145

第13章 蝕刻

13.1 關鍵影響因素 156

13.2 干膜的選擇 157

13.3 酸性蝕刻的均勻性 157

13.4 干膜狀態與蝕刻效果的關係 158

13.5 蝕刻因子的挑戰 159

13.6 蝕刻液體系 160

13.7 蝕刻工藝與設備 160

13.8 圖形轉移、蝕刻及蓋孔蝕刻的殘銅問題 170

第14章 水溶性干膜的退膜

14.1 關鍵影響因素 176

14.2 退膜工藝與化學反應 177

14.3 廢棄物處理 181

第15章 水質的影響

附錄 圖形轉移工藝特性參數

附錄1 銅面處理的主要特性參數 188

附錄2 貼膜的主要特性參數 189

附錄3 曝光的主要特性參數 191

附錄4 顯影的主要特性參數 192

附錄5 酸性電鍍的主要特性參數 193

附錄6 蝕刻的主要特性參數 194

附錄7 退膜的主要特性參數 196

參考文獻

  1. 國家對出版社等級是怎樣評估的 ,搜狐,2024-07-06
  2. 公司簡介,中國科技出版傳媒股份有限公司