微電子製造科學原理與工程技術

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《微電子製造科學原理與工程技術》，[美] 坎貝爾 著，曾瑩，嚴利人 著，出版社： 電子工業出版社。

電子工業出版社成立於1982年10月，是工業和信息化部直屬的科技與教育出版社，享有「全國優秀出版社」、「講信譽、重服務」的優秀出版社、「全國版權貿易先進單位」、首屆中國出版政府獎「先進出版單位」等榮譽稱號。

目錄

內容簡介

本書系統地介紹了微電子製造科學原理與工程技術，覆蓋了集成電路製造所涉及的所有基本單項工藝，包括光刻、等離子體和反應離子刻蝕、離子注入、擴散、氧化、蒸發、氣相外延生長、濺射和化學氣相澱積等。對每一種單項工藝，不僅介紹了它的物理和化學原理，還描述了用於集成電路製造的工藝設備。本書還介紹了各種先進的工藝技術，如快速熱處理、下一代光刻、分子束外延和金屬有機物化學氣相澱積等。在此基礎上本書討論了如何將這些單項工藝集成為各種常見的集成電路工藝技術，如CMOS技術、雙極型技術和砷化鎵技術，還介紹了微電子製造的新領域，即微機械電子系統及其工藝技術。本書可作為高等學校微電子專業本科生和研究生相應課程的教科書或參考書，也可供與集成電路製造工藝技術有關的專業技術人員學習參考。

作者介紹

坎貝爾 明尼蘇達大學電子與計算機工程系教授兼明尼蘇達大學微技術實驗室主任。無論是在工業界還是在大學實驗室，他的斗導體器件製造領域都有着廣泛的經驗。他的研究領域主要包括快速熱化學氣相澱積、高性能柵介質、磁MEMS和納米結構等。