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《專用集成電路設計實踐》，作者:來新泉　主編，出版社：西安電子科技大學出版社，出版日期：2008-11-01，ISBN：9787560621319，字數：412000，頁碼：271，版次：1，裝幀：平裝，開本：16開。

書籍是人類進步的階梯，合理閱讀使一個人完善自身的知識結構，全面提升人文素質，為走向成功奠定堅實的基礎。

內容簡介

本書強調實踐性和可操作性，結合八個常用集成電路設計實驗及常用EDA工具的使用，循序漸進地介紹了集成電路設計的工程基礎和設計方法。

全書共分六章，分別為：緒論；集成電路工藝基礎；電路設計，包括觸發器、比較器、運算放大器、帶隙基準、振盪器、LDO穩壓器、D/A和A/D共八個電路設計實踐；EDA軟件的使用，包括Cadence、Hspice、Eproduct和Ｔanner Pro的使用；版圖設計。包括DRC、ERC、LVS、和LPE；ASIC測試技術概述，包括常用測試設備與儀器、芯片測試方法、芯片Debug方法等。 本書可作為高等院校通信工程、電子信息工程、電子科學與技術、測控技術與儀器、計算機技術以及自動化等專業高年級本科生或研究生的教材，也可供有關科技人員參考。尤其對集成電路設計領域的工程技術人員來說，本書是一本非常有益的參考書。 　　 本書若與西安電子科技大學出版社同時出版的《專用集成電路設計基礎教程》一書配套使作，效果更好。

目錄

章　緒論

1.1　集成電路的發展歷史

1.1.1　重大的技術突破

1.1.2　集成電路的分類

1.1.3　集成電路的發展歷史

1.1.4　集成電路的展望

1.1.5　民展重點和關鍵技術

1.2　專用集成電路的發展歷史

1.2.1　專用集成電路的概念及發展概況

1.2.2　專用集成電路的分類

1.2.3　專用集成電路的優點

1.3　實踐的重要性

1.4　本書的特點

第2章　集成電路工藝基礎

2.1　引言

2.1.1　IC製造基本原理

2.1.2　工藝類型簡介

2.2　集成電路製造工藝概述

2.2.1　氧化工藝

2.2.2　摻雜工藝

2.2.3　光刻工藝

2.2.4　外延工藝

2.2.5　金屬化工藝

2.2.6　製版工藝

2.3　雙極集成電路的基本製造工藝

2.3.1　典型的雙極集成電路工藝

2.3.2　雙極集成電路中元件的形成過程和元件結構

2.4　CMOS集成電路的基本製造工藝

2.4.1　MOS集成電路的基本製造工藝

2.4.2　CMOS集成電路工藝

2.5　BiCMOS集成電路的基本製造工藝

2.5.1　以CMOS工藝為基礎的BiCMOS工藝

2.5.2　以雙極工藝為基礎的BiCMOS工藝

2.6　BCD集成電路的基本製造工藝

2.6.1　BCD工藝的關鍵技術簡介

2.6.2　BCD工藝的發展趨勢

2.7　鍺硅器件及基外延工藝簡介

第3章　電路設計

3.1　觸發器的設計

3.1.1　觸發器的原理

3.1.2　觸發器的指標

3.1.3　常見觸發器結構

實踐一　觸發器設計實例

3.2　比較器設計

3.2.1　比較器的原理

3.2.2　比較器的指標

3.2.3　常見比較器的結構

實踐二　比較器的電路設計

3.3　運算放大器設計、

3.3.1　運算放大器的基本原理

3.3.2　運算放大器的性能指標及重要參數

3.3.3　常見運算放大器的結構

實踐三　運算放大器電路設計

3.4　帶隙基準設計

3.4.1　帶隙基準的原理

3.4.2　帶隙基準的指標

3.4.3　常見帶隙基準的結構

實踐四　帶隙基準電路設計

3.5　振盪器設計

3.5.1　振盪器的原理

3.5.2　振盪器的指標

3.5.3　常見振盪器的結構

實踐五　振盪器電路設計

3.6　LDO穩壓器設計

3.6.1　LDO穩壓器的原理

3.6.2　LDO穩壓器的結構

3.6.3　常見LDO穩壓器的結構

實踐六　LDO穩壓器的電路設計

3.7　D/A轉換器的設計

3.7.1　D/A轉換器的原理

3.7.2　D/A轉換器的指標

3.7.3　常見D/A轉換器的結構

實踐七　D/A轉換器的電路設計

3.8　A/D轉換器的設計

3.8.1　A/D轉換器的原理

3.8.2　A/D轉換器的指標

3.8.3　常見A/D轉換器的結構

實踐八　A/D轉換器的電路設計

第4章　EDA軟件的使用

第5章　版圖設計

第6章　ASIC測試技術概述

參考文獻