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一本書讀懂芯片製程設備》,王超,姜晶,牛夷,王剛 著,出版社: 機械工業出版社。

機械工業出版社成立於1950年,是建國後國家設立的第一家科技出版社,前身為科學技術出版社,1952年更名為機械工業出版社[1]。機械工業出版社(以下簡稱機工社)由機械工業信息研究院作為主辦單位,目前隸屬於國務院國資委[2]

內容簡介

本書是圍繞集成電路芯片發展和新一代信息產業技術領域(集成電路及專用設備)等重大需求,編著的集成電路芯片製程設備通識書籍。集成電路芯片作為信息時代的基石,是各國競相角逐的「國之重器」,也是一個國家高端製造能力的綜合體現。芯片製程設備位於集成電路產業鏈的上游,貫穿芯片製造全過程,是決定產業發展的關鍵一環。本書首先介紹了集成電路芯片製程及其設備,並着重分析了芯片製程設備的國內外市場環境;然後,針對具體工藝技術涉及的設備,詳細綜述了設備原理及市場情況;並對我國集成電路芯片製程設備的發展做了總結展望。本書可為製造業企業和研究機構提供參考,也可供對集成電路芯片製程設備感興趣的讀者閱讀。

目錄

前 言

第1章 集成電路芯片製程簡介1

1.1 集成電路芯片概述1

1.1.1 集成電路芯片的發展1

1.1.2 集成電路的未來發展趨勢4

1.2 集成電路芯片工藝流程5

1.2.1 集成電路芯片前道製程

工藝6

1.2.2 集成電路芯片後道製程

工藝9

1.3 全球集成電路芯片製程設備市場

總體概述10

1.3.1 國外市場分析11

1.3.2 國內市場分析15

1.3.3 半導體設備行業發展前景

展望19

參考文獻20

第2章 晶圓製備設備23

2.1 單晶生長設備23

2.1.1 單晶生長設備原理24

2.1.2 單晶生長設備發展26

2.1.3 單晶生長設備國內外市場

分析26

2.2 晶片切割設備30

2.2.1 晶片切割設備原理31

2.2.2 晶片切割設備發展32

2.2.3 晶片切割設備國內外市場

分析32

2.3 晶圓清洗設備37

2.3.1 晶圓清洗設備原理37

2.3.2 晶圓清洗設備發展39

2.3.3 晶圓清洗設備市場分析41

2.4 本章小結46

參考文獻47

第3章 熱工藝設備50

3.1 熱氧化相關原理50

3.2 擴散相關原理53

3.3 退火相關原理55

3.4 熱工藝設備結構及原理55

3.4.1 立式爐55

3.4.2 臥式爐58

3.4.3 快速熱處理設備61

3.5 國內外市場分析63

3.5.1 熱工藝設備市場概述63

3.5.2 國外相關設備概述65

3.5.3 國內相關設備概述66

3.6 本章小結68

參考文獻69

第4章 光刻及光刻設備71

4.1 光刻原理71

4.2 光刻耗材74

4.2.1 光刻膠74

4.2.2 顯影液75

4.2.3 掩模版75

4.3 光刻機分類76

4.4 光刻機原理77

4.5 光刻機演變史79

4.5.1 國外光刻機發展史80

4.5.2 中國光刻機發展史81

目錄一本書讀懂芯片製程設備 4.6 國內外市場分析83

4.6.1 國外相關設備概述84

4.6.2 國內光刻市場概述88

4.7 本章小結89

參考文獻90

第5章 刻蝕設備94

5.1 原理介紹94

5.1.1 濕法刻蝕原理95

5.1.2 干法刻蝕原理97

5.2 刻蝕設備99

......

參考文獻