檢視 DUV光源的原始碼

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<small>[https://www.163.com/dy/article/JSL1QRKP0531MBJL.html 来自 网络 的图片]</small>
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'''DUV光源'''DUV光源即深紫外[[光源]]。

准分子激光光源：如氟化氩（ArF）准分子[[激光器]]，通过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不稳定的准分子，当其跃迁回基态时释放出193nm波长的深紫外光。

全固态激光光源：以中科院研发的全固态DUV光源为例，采用自制的掺镱钇铝石榴石（Yb:YAG）晶体放大器产生1030nm[[激光]]，再通过不同光路进行波长转换，最终输出193nm的激光光束。

==特点==

波长较短：波长在200[[纳米]]<ref>[https://www.sohu.com/a/199553371_752825 这位外国大咖告诉你，生物纳米科学有多神奇！ ]，搜狐，2017-10-22</ref>到300纳米范围内，常见的ArF激光波长为193纳米，能实现更小尺寸的光刻图案转移。

相干性好：如全固态DUV光源，输出的激光光束具有良好的相干性，可使光刻过程中光线的干涉现象更稳定，提高图案的精度和[[质量]]。

能量密度高：可在短时间内将大量能量集中在小面积上，使光刻胶能够快速、准确地发生化学反应，实现精细图案的[[雕刻]]<ref>[https://www.sohu.com/a/384900767_120381622 雕刻时光：中国皮影雕刻的造型流派 ]，搜狐，2020-04-01</ref>。

==应用==

半导体制造：是半导体光刻技术中常用的光源，用于制造7nm以上的[[芯片]]，如28纳米、14纳米、10纳米工艺节点的芯片制造。

科研领域：深紫外全固态激光源（duv-dpl）可用于物理、[[化学]]、信息、材料、[[生命]]、资环等学科领域的前沿研究，如观测凝聚态物质的微观电子状态、研究光化学反应等。

其他领域：还可应用于光发射[[电子显微镜]]、光致发光谱仪、拉曼光谱仪等科学仪器，将其观测精度或研究范围拓展到深紫外激光波段。

==发展现状==

国外：ASML、佳能、尼康等国外厂商在DUV光刻机领域技术成熟，长期以来占据着[[市场]]主导地位，其DUV光刻机多采用氟化氙（ArF）准分子激光技术。

国内：[[中国科学院]]研究团队成功研发出全固态DUV光源技术，可发射193nm的相干光，光谱纯度与现有商用准分子激光系统相当，有望用于3nm芯片制造，打破了国外技术垄断。

==参考文献==
[[Category:330 物理學總論]]