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精密陶瓷, 先進陶瓷, ZrO₂

氧化鋯在精密陶瓷產品中，常溫使用狀態下具有很好的機械強度。熱膨脹率和金屬相近，與金屬材質組合使用尤為適合。具有導熱率低的性能，韌性高，是一種克服陶瓷太脆易碎缺點的產品。氧化鋯是由 Hussak 於 1892 年發現。 以天然礦石鋯英砂或斜鋯石存在。 純氧化鋯以單斜晶、正方晶及立方晶結構存在。 氧化鋯是可以提供高強度、高韌性、高硬度，以及優異的化學腐蝕性與耐磨性。

SiC

碳化矽它具有硬度僅次於金剛石和碳化硼，具有高耐磨性，因此用於滑動部件（機械密封等）。 此外，它具有高的楊氏模量和小的熱膨脹係數，因此用於需要高精度的部件（光學部件，基板等）。 由於是緻密的燒結體，因此可以進行鏡面加工。耐高溫超過1400°C，耐熱衝擊，具有優異的化學穩定性。做為SiC手，SiC護套，薄板產品和厚壁產品。達陣科技加工高純度SiC（高純度碳化矽）材料，常被用作半導體製造設備的零件。

Silicon Nitride (Si₃N₄)

氮化矽陶瓷對熱、衝擊及撞擊皆具有高度抗性。卓越的耐熱性及抗衝擊性加之高強度，使得氮化矽成為高溫、高負載應用之優先選擇。氮化矽陶瓷的常見應用為半導體加工設備，一般工業機械，耐熱零件。氮化矽是一種重要的結構陶瓷材料。它是一種超硬物質，本身具有潤滑性，並且耐磨損，為[[原子]]晶體；高溫時抗氧化。而且它還能抵抗冷熱衝擊，在空氣中加熱到1000°C以上，急劇冷卻再急劇加熱，也不會碎裂。