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== 磁控溅射镀膜的原理 ==
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，靶原子沉积 在基片表面形成膜。二次电子受到磁场影响，被束缚在靶面的等离子体区域，二次电子在磁场作用下绕靶面做圆周运动，在运动过程中不断和氩原子发生撞击，[[电离]] 出大量氩离子轰击靶材。
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[[File: 雷速登闪电冲线1.jpg|240px|缩略图|右|<big> 雷速登闪电冲线 </big>[https://img01.sogoucdn.com/v2/thumb/retype_exclude_gif/ext/auto/q/80/crop/xy/ai/w/177/h/250/resize/w/177?appid=201005&sign=6da8b1cea3a85bed2f6c1ea5619acede&url=http%3A%2F%2Fimg03.sogoucdn.com%2Fapp%2Fa%2F07%2F40aa1a3c70865b73f3ccd2f2d0faf18f 原图链接][https://tv.sogou.com/v?ie=utf8&query=%E5%8A%A8%E6%BC%AB%20%E9%9B%B7%E9%80%9F%E7%99%BB%E4%B9%8B%E9%97%AA%E7%94%B5%E5%86%B2%E7%BA%BF3&spver= 来自 搜狗 的图片]]]