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真空电子器件
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为实现陶瓷绝缘件和金属件的封接以构成部件,广泛采用烧结金属粉末法和活性金属法两种工艺。前者是将钼、锰等金属粉末(有时添加少量氧化物作为活化剂)涂敷在待封接的陶瓷表面,再在氢炉中在 900~1600范围内的某一温度烧结成金属化层,经镀镍后用焊料与金属加以封接。活性金属法则是利用钛、锆等活性金属和焊料或含活性金属的合金焊料,在真空炉中升温至略高于焊料熔点的温度,形成液相活性合金来润湿陶瓷和金属,完成封接。除这两种工艺外,还有氧化物焊料法、扩散封接以及利用蒸发或溅射金属化来进行封接等工艺。图2是一些常用的陶瓷-金属封接结构。<ref>[https://baijiahao.baidu.com/s?id=1718650279926408425&wfr=spider&for=pc 真空电子器件]搜狗</ref>
=='''参考文献'''==
[[Category:470 製造總論]]