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光刻胶
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[[File:光刻胶.jpeg|有框|右|<big>光刻胶</big>[https://dfsimg1.hqewimg.com/group1/M00/16/47/wKhk718ZYAyACNmTAAUqGtaoCOM905.png 原图链接][https://tech.hqew.com/news_2064282 来自 华强电子网 的图片]]]
'''光刻胶'''（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、[[X射线]]等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。