磁共振成像技术与应用查看源代码讨论查看历史
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《磁共振成像技术与应用》，汤光宇，李懋 著，出版社： 上海科学技术出版社。
读书，可以与时俱进，开阔自己，提高自己，充实自己，完善自己，是全球文化[1]科技知识扩容和更新的需要，是知识[2]经济和社会发展的要求。
内容简介
MRI原理一直是影像科医师和相关临床医师理解MRI的难点，但又是深入学习、应用、研究MRI不可逾越的门槛。因此，本书旨在从影像医师角度阐述MRI的成像物理基础、成像原理，帮助临床医生理解、认识MRI以及相关的应用。本书共16章，第1~6章主要介绍MR成像原理、各种MR扫描序列、MR扫描参数、如何实现快速成像、MRI伪影及处理等知识，原理部分涵盖一些熟能详的概念，如核、磁、共振、K空间、弛豫、静磁场、射频场、梯度场等，有助于读者对后续知识的理解。第7~15章主要介绍各种常用的、的MRI技术，前者包括MRI脂肪抑制技术、MRA、DWI、MR灌注成像、BOLD、MRS、 MR流体成像及周围神经MR成像技术，后者集中介绍了17种MR定量技术，分门别类地叙述便于读者理解、应用。第16章是MRI对比剂，除了介绍钆剂、铁剂、肝异性对比剂外，对MR靶向对比剂探针的设计也做了简单介绍，希望能起到举一反三的作用。每个成像技术后面都附有应用部分，包括临床应用和科研应用两部分。
作者介绍
汤光宇，主任医师，教授，同济大学附属第十人民医院放射科主任，博士生导师，医学博士，医学专长:医学影像诊断，尤其擅长磁共振诊断。上海市放射诊断专业委员会青年委员，MRI组组长。上海市中西医结合学会影像学专业委员会委员。闸北区医学会理事，放射学组组长。European Radiology审稿人，《临床放射学杂志》编委。上海市科委课题评审专家。