硅氧四面体查看源代码讨论查看历史
硅氧四面体是硅酸盐晶体结构中的基本构造单元。
释文：它是由位于中心的一个硅原子与围绕它的四个氧原子所构成的配阴离子[SiO4]4-，因周围的四个氧原子分布成配位四面体的形式，故名。
英文：silicon oxygen tetrahedron
在晶体结构中，各硅氧四面体可以各自孤立地存在，也可以通过共用四面体角顶上的一个、两个、三个以至全部四个氧原子相互连结而形成多种不同形式的络阴离子，从而形成不同结构类型的硅酸盐晶体。
硅氧四面体的形式不一定是几何上的正四面体，往往有不同形式的畸变。
在硅氧四面体中，有三个氧位于同一个平面上，成为底氧，剩下的一个位于顶端，成为顶氧。
该结构中的六方网格内切圆直径约为0.288nm，硅氧四面体片厚度约为0.5nm [1]
它是由位于中心的一个硅原子与围绕它的四个氧原子所构成的配阴离子[sio4]4-，因周围的四个氧原子分布成配位四面体的形式，故名硅氧四面体。 在晶体结构中，各硅氧四面体可以各自孤立地存在，也可以通过共用四面体角顶上的一个、两个、三个以至全部四个氧原子相互连结而形成多种不同形式的络阴离子，从而形成不同结构类型的硅酸盐晶体。 硅氧四面体的形式不一定是几何上的正四面体，往往有不同形式的畸变。[2]