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90nm光刻机照明系统
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{| class="wikitable" align="right" |- |<center><img src=https://p5.itc.cn/q_70/images03/20230905/837a4f06a19e4a24b2c3783a303dbc62.jpeg width="300"></center> <small>[https://www.sohu.com/a/717957269_121687419 来自 搜狐网 的图片]</small> |} '''90nm光刻机照明系统'''2017年4月,上海光机所自主技术研发的国内首套面向90nm节点光刻机<ref>[https://www.sohu.com/a/158243019_468626 光刻机详解 ],搜狐,2017-07-19</ref>的NA0.75 ArF照明[[系统]]顺利通过了整机单位的验收测试并实现交付,实现了极限分辨率优于85nm的优异[[结果]]。
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