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林奎至
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'''林奎至''',台灣[[銘傳大學]]電子工程學系專任教師,畢業於國立成功大學電機所博士。主要專長CMOS元件物理和設計、類比積體電路設計、超大型積體電路(VLSI)設計、數位與類比訊號處理。 ==研究成果== {| class="wikitable" |- ! 論文名稱 !! 作者 !! 期刊名稱!!發表日期 |- |Ferroelectric of HfO2 dielectric layer sputtered with TiN or ZrN for sandwich-like metal-insulator-metal capacitors||P. C. Juan, K. C. Lin, H. Y. Chu, Y. C. Kuo, H. W. Wang, and T. Y. Shih||Microelectronics Reliability||2018.04 |- |Leakage Current Mechanism and Effect of Y2O3 Doped with Zr High-K Gate Dielectrics|| K. C. Lin, P. C. Juan, C. H. Liu, M. C. Wang, and C. H. Chou||Microelectronics Reliability||2015.11 |- |The Impacts of Contact Etch Stop Layer Thickness and Gate Height on Channel Stress in Strained N-Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors ||K. C. Lin, M. J. Twu, R. H. Deng, and C. H. Liu|| Journal of Nanoscience and Nanotechnology|| 2015.04 |}<ref>[https://www2.mcu.edu.tw/ePortfolio/Teacher/html/indexUser.asp?dnm=%B9q%A4l%A4u%B5{%BE%C7%A8t&dept=0637&qry=6 銘傳大學電子工程學系]</ref> ==參考文獻== {{reflist}} [[Category:教师]][[Category:台湾人]]
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