X光散射技術

X光散射技術(英語: X-ray scattering technology )，或X射線衍射技術（英語：X-ray scattering techniques）是一系列常用的非破壞性分析技術，可用於揭示物質的晶體結構、化學組成以及物理性質。這些技術都是以觀測X射線穿過樣品後的散射強度為基礎，並根據散射角度、極化度和入射X光波長對實驗結果進行分析。X光散射技術可在許多不同的條件下進行分析，例如不同的溫度或壓力。

X光衍射技術

X光衍射（X-ray diffraction）技術可以用於研究分子的構象或形態。X光衍射技術是基於X光在穿過長程有序物質所發生的彈性散射。「衍射動力學理論」對晶體的散射現象給出了更為複雜的描述。以下列出的是X光衍射的相關技術：

單晶X射線衍射：用於解析晶態物質中分子的整體結構，研究範圍可以從小的無機小分子到複雜的大分子，如蛋白質；可用單色性X光（德拜法）或連續波長X光（即「勞厄法」）進行研究。

粉末衍射：也是一種獲得晶體（微晶）結構的方法，所用樣品為多晶態或粉末固態晶體。粉末衍射通常用於鑑定未知物質，主要通過將衍射數據與衍射數據國際中心（International Centre for Diffraction Data，ICDD）中的衍射數據庫進行比較。這一技術或可用於鑑定非均一態的固體混合物，確定其中含量相對豐富的晶態物質；而且，當與網格修正技術（如Rietveld修正）連用時，還可以提供未知物質的結構信息。粉末衍射也是確定晶態物質晶系的常用方法，並可用於測定晶體顆粒的大小。

薄膜衍射。

X射線極圖分析：用於分析和測定晶態薄膜樣品中晶態方位。X射線回擺曲線分析法：用於定量測量晶態物質的粒度大小和鑲嵌度散布。

即使是非晶態物質（非長程有序），也可能可以用依賴於單色性X光的彈性散射的方法來研究：

小角X射線散射：在散射角2θ接近0°時，對樣品的X射線散射強度進行測量，以獲取納米到微米量級上的分子結構信息^[1]。

X射線反射率：用於分析和測定單層或多層薄膜的厚度、粗糙度和密度。

廣角X射線散射：測量散射角2θ大於5°。

非彈性散射

當非彈性散射的X射線的能量和角度被監測時，相關的散射技術就可以用於探測物質的能帶結構：

康普頓散射。 v3267kriazs射。

X射線拉曼散射。

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