是将涂层材料做为靶阴极，利用[[氩离子轰击靶材]]，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种[[镀膜技术]]，涂层材料一直保持[[固态]]，不形成[[熔池]]。

== 磁控溅射镀膜的原理 ==