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化学沉积
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{| class="https://image.baidu.com/search/detail?ct=503316480&z=0&ipn=d&word=%E5%8C%96%E5%AD%A6%E6%B2%89%E7%A7%AF&step_word=&hs=0&pn=16&spn=0&di=7084067677328637953&pi=0&rn=1&tn=baiduimagedetail&is=0%2C0&istype=0&ie=utf-8&oe=utf-8&in=&cl=2&lm=-1&st=undefined&cs=3619430502%2C2821273079&os=1794834894%2C2308409070&simid=4247450678%2C749040760&adpicid=0&lpn=0&ln=1473&fr=&fmq=1654349788616_R&fm=&ic=undefined&s=undefined&hd=undefined&latest=undefined©right=undefined&se=&sme=&tab=0&width=undefined&height=undefined&face=undefined&ist=&jit=&cg=&bdtype=0&oriquery=&objurl=https%3A%2F%2Fgimg2.baidu.com%2Fimage_search%2Fsrc%3Dhttp%3A%2F%2Ftxt25-2.book118.com%2F2017%2F0112%2Fbook82656%2F82655999.jpg%26refer%3Dhttp%3A%2F%2Ftxt25-2.book118.com%26app%3D2002%26size%3Df9999%2C10000%26q%3Da80%26n%3D0%26g%3D0n%26fmt%3Dauto%3Fsec%3D1656941859%26t%3Dbfe74459ec38f6d5c68bb7eb32c0c06e&fromurl=ippr_z2C%24qAzdH3FAzdH3F4wx_z%26e3Bk55h88b_z%26e3Bv54AzdH3Fip4sAzdH3Fda80AzdH3Fa88dAzdH3Fbdmcclll_z%26e3Bfip4&gsm=11&rpstart=0&rpnum=0&islist=&querylist=&nojc=undefined" style="float:right; margin: -10px 0px 10px 20px; text-align:left"
|<center>'''化学沉积'''<br><img
src="https://gimg2.baidu.com/image_search/src=http%3A%2F%2Ftxt25-2.book118.com%2F2017%2F0112%2Fbook82656%2F82655999.jpg&refer=http%3A%2F%2Ftxt25-2.book118.com&app=2002&size=f9999,10000&q=a80&n=0&g=0n&fmt=auto?sec=1656941859&t=bfe74459ec38f6d5c68bb7eb32c0c06e " width="280"></center><small> 圖片來自百度</small>
|}
'''化学沉积'''是利用一种合适的[[还原剂]]使镀液中的金属离子还原并沉积在基体表面上的化学还原过程。与电化学沉积不同， 化学沉积不需要整流电源和阳极。
==简介==
化学沉积具有化学气相沉积和液相沉积两种模式。 <ref>[[余萍，陈善华，液相沉积法的应用及发展(J).广东微量元素科学，2006年,13(3).]]</ref>
(Chemical Vapor Deposition)是利用加热，[[等离子]]体激励或光辐射等方法，使气态或蒸汽状态的[[化学物质]]发生反应并以原子态沉积在置于适当位置的衬底上，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。化学[[气相沉积]]是一种非常灵活、应用极为广泛的工艺方法，可以用来制备各种涂层、粉末、纤维和成型[[元器件]]。特别在[[半导体材料]]的生产方面，化学气相沉积的外延生长显示出与其他外延方法（如分子束外延、液相外延）无与伦比的优越性，即使在化学性质完全不同的衬底上，利用化学气相沉积也能产生出晶格常数与衬底匹配良好的外延薄膜。此外，利用化学气相沉积还可生产耐磨、耐蚀、[[抗氧化]]、[[抗冲蚀]]等功能涂层。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。
==评价==
Liquid-Phase Deposition(LPD)，是专为制备氧化物薄膜而发展起来的液相外延技术。基本原理是从金属氟化物的水溶液中生成氧化物薄膜的方法，通过添加水、[[硼酸]]或者金属Al，使[[金属氟化物]]缓慢水解。其中水直接促使生成氧化物，硼酸和铝作为氟离子的捕获剂，促进水解，从而使金属氧化物沉积在基体表面。该法要求对水解反应以及溶液的过饱和度有很好的控制。另外，薄膜的形成过程是在强酸性的溶液中进行的。当前，已可以采用LPD沉积的金属的氧化物有：Ti、Sn、Zr、V、Cd、Zn、Ni、Fe、Al等。整体而言，LPD法工艺简单、成膜速率高、对环境污染小，为功能薄膜的生产开辟了一条新的途径。
'''视频'''
'''化学气相沉积'''
{{#iDisplay:i3225sum6i0 | 560 | 390 | qq }}
==参考文献==
{{Reflist}}
|<center>'''化学沉积'''<br><img
src="https://gimg2.baidu.com/image_search/src=http%3A%2F%2Ftxt25-2.book118.com%2F2017%2F0112%2Fbook82656%2F82655999.jpg&refer=http%3A%2F%2Ftxt25-2.book118.com&app=2002&size=f9999,10000&q=a80&n=0&g=0n&fmt=auto?sec=1656941859&t=bfe74459ec38f6d5c68bb7eb32c0c06e " width="280"></center><small> 圖片來自百度</small>
|}
'''化学沉积'''是利用一种合适的[[还原剂]]使镀液中的金属离子还原并沉积在基体表面上的化学还原过程。与电化学沉积不同， 化学沉积不需要整流电源和阳极。
==简介==
化学沉积具有化学气相沉积和液相沉积两种模式。 <ref>[[余萍，陈善华，液相沉积法的应用及发展(J).广东微量元素科学，2006年,13(3).]]</ref>
(Chemical Vapor Deposition)是利用加热，[[等离子]]体激励或光辐射等方法，使气态或蒸汽状态的[[化学物质]]发生反应并以原子态沉积在置于适当位置的衬底上，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。化学[[气相沉积]]是一种非常灵活、应用极为广泛的工艺方法，可以用来制备各种涂层、粉末、纤维和成型[[元器件]]。特别在[[半导体材料]]的生产方面，化学气相沉积的外延生长显示出与其他外延方法（如分子束外延、液相外延）无与伦比的优越性，即使在化学性质完全不同的衬底上，利用化学气相沉积也能产生出晶格常数与衬底匹配良好的外延薄膜。此外，利用化学气相沉积还可生产耐磨、耐蚀、[[抗氧化]]、[[抗冲蚀]]等功能涂层。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。
==评价==
Liquid-Phase Deposition(LPD)，是专为制备氧化物薄膜而发展起来的液相外延技术。基本原理是从金属氟化物的水溶液中生成氧化物薄膜的方法，通过添加水、[[硼酸]]或者金属Al，使[[金属氟化物]]缓慢水解。其中水直接促使生成氧化物，硼酸和铝作为氟离子的捕获剂，促进水解，从而使金属氧化物沉积在基体表面。该法要求对水解反应以及溶液的过饱和度有很好的控制。另外，薄膜的形成过程是在强酸性的溶液中进行的。当前，已可以采用LPD沉积的金属的氧化物有：Ti、Sn、Zr、V、Cd、Zn、Ni、Fe、Al等。整体而言，LPD法工艺简单、成膜速率高、对环境污染小，为功能薄膜的生产开辟了一条新的途径。
'''视频'''
'''化学气相沉积'''
{{#iDisplay:i3225sum6i0 | 560 | 390 | qq }}
==参考文献==
{{Reflist}}