磁共振成像技術與應用
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《磁共振成像技術與應用》，湯光宇，李懋 著，出版社： 上海科學技術出版社。
讀書，可以與時俱進，開闊自己，提高自己，充實自己，完善自己，是全球文化[1]科技知識擴容和更新的需要，是知識[2]經濟和社會發展的要求。
目錄
內容簡介
MRI原理一直是影像科醫師和相關臨床醫師理解MRI的難點，但又是深入學習、應用、研究MRI不可逾越的門檻。因此，本書旨在從影像醫師角度闡述MRI的成像物理基礎、成像原理，幫助臨床醫生理解、認識MRI以及相關的應用。本書共16章，第1~6章主要介紹MR成像原理、各種MR掃描序列、MR掃描參數、如何實現快速成像、MRI偽影及處理等知識，原理部分涵蓋一些熟能詳的概念，如核、磁、共振、K空間、弛豫、靜磁場、射頻場、梯度場等，有助於讀者對後續知識的理解。第7~15章主要介紹各種常用的、的MRI技術，前者包括MRI脂肪抑制技術、MRA、DWI、MR灌注成像、BOLD、MRS、 MR流體成像及周圍神經MR成像技術，後者集中介紹了17種MR定量技術，分門別類地敘述便於讀者理解、應用。第16章是MRI對比劑，除了介紹釓劑、鐵劑、肝異性對比劑外，對MR靶向對比劑探針的設計也做了簡單介紹，希望能起到舉一反三的作用。每個成像技術後面都附有應用部分，包括臨床應用和科研應用兩部分。
作者介紹
湯光宇，主任醫師，教授，同濟大學附屬第十人民醫院放射科主任，博士生導師，醫學博士，醫學專長:醫學影像診斷，尤其擅長磁共振診斷。上海市放射診斷專業委員會青年委員，MRI組組長。上海市中西醫結合學會影像學專業委員會委員。閘北區醫學會理事，放射學組組長。European Radiology審稿人，《臨床放射學雜誌》編委。上海市科委課題評審專家。