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真空蒸发是在真空下进行的蒸发操作。在真空蒸发流程中，末效的二次蒸汽通常在混合式冷凝器中冷凝。真空蒸发的特点是，在低压下溶液的沸点降低且用较少的蒸汽蒸发大量的水分。该技术应用于真空蒸发镀膜等。

*中文名:[[真空蒸发]]

*外文名:Vacuum evaporation

*属    性:在真空下进行的蒸发操作

*优    点:增大传热推动力

*原    理：低压沸点低用少蒸汽蒸发大量水分

*应    用:[[结晶盐]]、[[镀膜]]等


==简介==

生产[[硫酸铜]]产出的[[母液]]经一次脱铜后还含有相当数量的铜和镍，此溶液直接送去脱铜除砷、锑由于液量大是不经济的，同时，此液镍离子浓度低，冷却法生产粗硫酸镍结晶率低，所以要把一次脱铜后液进行浓缩。经过浓缩后，酸和镍的浓度提高了，在经过二次脱铜达到生产粗硫酸镍的技术条件，可提高冷冻结晶粗硫酸镍的结晶率，增加镍的直收率。

有的厂家通过真空蒸发过程生产硫酸镍，其法为高酸结晶法，其生产过程主要有：真空蒸发、粗硫酸铜水冷结晶、离心过滤、粗硫酸铜重新溶解、精硫酸铜水冷结晶和离心过滤等。
采用高酸结晶法不需要加入其他原料，进入真空蒸发器的溶液除电解液外，还有硫酸铜冲洗水、结晶母液等，与电解液按比例混合后均可进入真空蒸发器浓缩，蒸发后液生产硫酸铜。

==应用==

'''结晶盐'''

真空制盐技术自20世纪80年代投入使用以来，发展十分迅速，目前该技术已经成功运用于地区性[[地层水]]处理和农药等行业。具有能获得高纯度的产品水、操作与维护简单的优点。蒸发是真空制盐的主要过程。地层水由于蒸汽的加热而在蒸发罐内沸腾，一部分水被汽化，氯化钠则因水分的不断蒸发而从溶液中结晶析出。蒸发是一热过程，它必须靠热能的不断供给和二次蒸汽的不断排除(冷凝)才能进行。

真空制盐主要原理是向[[多效蒸发]]罐的首效加热室壳程内加入一定压力的饱和蒸汽，[[饱和蒸汽]]与管程内自下而上的卤水按对流——传导——对流方式进行热交换。饱和蒸汽释放潜热冷凝成水，卤水吸收热量温度升高。在[[轴流泵]]的作用下，卤水强制循环至蒸发室内蒸发、结晶，产生的二次蒸汽进入下一效加热室作为加热蒸汽，依次类推。末效卤水蒸发产生的二次蒸汽引入混合冷凝器，用冷却循环水冷凝后排出系统，其中的不凝汽用真空泵抽出，维持其负压(真空)状态。这样一来，各效的蒸汽压力和温度自动分配并逐效降低，卤水的沸点亦逐效降低，从而使卤水在不同的温度条件下蒸发、结晶。蒸发罐效与效之间形成的温差，即是多效蒸发的传热推动力。<ref>[[江健，王旭，杨功田，李祖友，王自力．裂缝型致密砂岩储层天然气开发实践：中国石化出版社，2015.01：258]]</ref>  

'''镀膜'''

真空蒸发镀膜属于物理[[气相沉积法]]，是制备薄膜的一般方法。这种制作方法是把装有基片的真空室抽成10-2Pa以下的真空，然后再加热镀料，使表面原子或者分子发生气化反应，逸出并形成蒸汽流，入射到基片的表面，凝结形成固态的薄膜。真空蒸发镀膜设备主要由两大部分组成，即真空镀膜室和真空抽气系统。真空镀膜室内有蒸发源、基片、被蒸镀材料和基片支架等，其原理如图3所示。制备质量较好的外延薄膜，可以在制备过程中，通过调整蒸发速度，改变加热电流来实现。通过改变蒸发轴与基地表面直接的夹角可以制备不同形状的薄膜，如沉积均匀薄膜时需使夹角为90°，沉积楔形薄膜时需使夹角成一定的角度。实现真空蒸发法镀膜，必须具备三个条件：冷的基片，以便于气体镀料凝结成为薄膜；真空环境，方便于气相镀料向基片的运输；热的蒸发源，使镀料蒸发。

真空蒸发镀膜法的优点为：(1)制备的薄膜纯度高、质量好，可较准确地控制薄膜的厚度；(2)薄膜的生长机理较为单纯；(3)设备简单、操作容易方便；(4)成膜效率高、速率快，用掩膜可以获得比较清晰的图形等。

真空蒸发镀膜法的缺点为：(1)制备的镀膜使用寿命较短；(2)薄膜的均匀性比较难控制；(3)制备的薄膜结晶质量较差；(4)工艺重复性不够好；(5)不能蒸发高熔点的材料等。<ref>[[赵祥敏，赵文海．氧化锌和氮化铝薄膜制备与表征实例：冶金工业出版社，2015：57]]</ref> 

==参考文献==
{{Reflist}}

[[Category:400 應用科學總論]]